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日本昭和電工公司開發(fā)出溫室氣體干式四氟化碳(PFC)分解裝置

   2012-09-12 6230
核心提示:(中華化工網(wǎng)訊) 據(jù)日本日經(jīng)BP社報道,日本昭和電工公司日前開發(fā)出了溫室氣體四氟化碳(PFC)分解裝置HB-3000。該裝置以結合了現(xiàn)
中華化工網(wǎng)訊) 據(jù)日本日經(jīng)BP社報道,日本昭和電工公司日前開發(fā)出了溫室氣體四氟化碳(PFC)分解裝置“HB-3000”。該裝置以結合了現(xiàn)有的化學反應方式和催化劑方式的新方式進行分解處理。


      HB-3000是一款無需水處理工序的干式裝置,其特點在于綜合了化學反應方式及催化劑方式的優(yōu)點。化學反應方式具備無需進行污水處理、二氧化碳排放量也較少的優(yōu)點。不過,由于需要使用高性能反應劑來分解四氟化碳并同時固定分解時產生的氟,因此運行成本較高,而且由于反應劑填充容器的容量限制,可處理的排氣量僅為每分鐘200升左右。


      催化劑方式是利用催化劑分解四氟化碳,用水吸收分解時產生的氟,其優(yōu)點在于運行成本較低,通過大型化,可處理大量廢氣。但是需要對排出的污水等進行后處理。


      此次開發(fā)的新裝置利用低價鈣(Ca)類反應劑,成功使催化劑方式中的氟去除工序實現(xiàn)了干式化。由于這種鈣類反應劑價格較低,因此與化學反應方式相比,反應劑所需成本降低,與催化劑方式相比,水處理所需成本也有所減少。


      并且,由于是自動將鈣類反應劑直接送入裝置并排出,因此不會受到填充容器容量的限制,可維持與原有大型催化劑方式同等的廢氣處理能力(每分鐘3500升),同時縮小了機身尺寸,可收放在20英尺集裝箱內。凈化后產生的氟化鈣(CaF2)還可作為合成螢石進行再利用。

      四氟化碳主要用于液晶面板及半導體的蝕刻工序等,其溫室效應系數(shù)高,因此使用后在排放時需要進行分解處理。 昭和電工力爭到2015年,廢氣處理裝置業(yè)務整體年銷售額實現(xiàn)30億日元。此次的新產品預定在2012年內開始銷售。


 
 
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